한·중·일 특허청 '지식재산 협력 10년 비전' 본격 추진

한·중·일 특허청 '지식재산 협력 10년 비전' 본격 추진

3국, 내년부터 AI 분야 특허심사기준 및 심사사례 비교 연구 추진 등

특허청 제공특허청 제공한·일·중 특허청이 '지식재산 협력 10년 비전'의 본격 이행에 나섰다.
 
김완기 특허청장은 4일 중국 상하이에서 열린 '제24차 한·일·중 청장회의'에 참석하고 일본과 중국 청장과의 양자 회담을 이어갔다. 
 
이 자리에서 3국의 청장들은 지난 5월 채택한 '지식재산 협력 10년 비전'의 이행 계획을 승인하고 이를 위한 긴밀한 협력을 약속했다. 
 
특히 인공지능(AI) 분야에서 각국의 심사 기준과 3국에 공동으로 신청된 특허출원의 심사결과를 비교·분석하고 이를 보고서로 마련해 민간에 제공하기로 했다. 
 
또 특허 정보의 민간 활용 활성화를 위해 한·일·중 유저 심포지엄 등 다양한 행사를 통해 특허정보 서비스와 활용 사례 등을 3국의 지식재산 서비스 사용자들에게 소개하기로 했다. 
 
김완기 특허청장은 "한·일·중 특허출원은 전 세계의 62%에 해당할 정도로 지식재산분야에서 3국이 차지하는 위상이 높고 협력 역시 매우 중요하다"며 "지난 5월 체결된 '3국 지식재산 협력 10년 비전'이 이번 회의를 계기로 성공적으로 추진돼 많은 성과로 이어질 수 있도록 최선을 다하겠다"고 밝혔다.

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